Mádara Anti-age opalovací krém na obličej Plant Stem Cell SPF30 40 ml
Tento průkopnický přírodní opalovací krém na obličej na minerální bázi vám zajistí širokospektrální ochranu před UVA/UVB paprsky. Po aplikaci bude dokonale neviditelný.
Kategorie: | E-shop |
---|---|
Položka byla vyprodána… |
Náš inovativní přípravek s ochranným faktorem 30 obsahující jedinečné rostlinné kmenové buňky včelníku vám dodá spoustu antioxidantů, které vás ochrání před znečištěním v městském prostředí, budou pečovat o mikrobiom vaší pokožky a regenerovat ji. Spolehlivě tak zastaví příznaky jejího stárnutí. Předchází poškození vlivem slunce, například suché pokožce, vráskám, pigmentaci, tmavým tečkám nebo ztrátě objemu.
Velmi jemná, decentně zbarvená struktura, na pokožce 100% neviditelná. Vhodné pro muže i ženy.
VAROVÁNÍ: Krém nepředstavuje stoprocentní ochranu před paprsky UVA a UVB. Delší pobyt na slunci vážně ohrožuje zdraví. Vyhýbejte se mu, i když používáte protisluneční ochranu.
Jde o jeden z nejoblíbenějších přípravků od MÁDARY, který milují a používají i muži.
Naneste produkt na očištěnou pleť nebo na svůj denní hydratační přípravek. Podle potřeby jej naneste znovu během dne.
INCI: Aloe Barbadensis (Aloe) Leaf Juice, Zinc Oxide, Isoamyl Laurate, Dicaprylyl Carbonate, Glycerin, Sorbitan olivate, Cera Alba, Lecithin, Polyglyceryl-2 Dipolyhydroxystearate, Silica, Cellulose, Dracocephalum Ruyschiana (Dragonhead) Cell Culture Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Quercus Robur (Oak) Bark Extract, Vitis Vinifera (Grape) Seed Extract, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate, Sodium Chloride, Aroma, Rubus Idaeus (Raspberry) Seed Oil, Sorbitan Caprylate, CI 77492 (Iron oxide), Palmitic acid, Stearic Acid, Propanediol, Benzoic Acid, CI 77499 (Iron Oxide), CI 77491 (Iron oxide), Aqua, Ascorbyl Palmitate, Sodium phytate, Tocopherol, Potassium Hydroxide, Benzyl Salicylate, Limonene, Citral, Linalool, Eugenol
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
Pouze registrovaní uživatelé mohou vkládat hodnocení. Prosím přihlaste se nebo se registrujte.
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.